三星首次将EUV应用于DRAM

三星电子已经成功地应用了极端紫外线(E UV)工艺在其DRAM生产，该公司已经宣布。 它还运送了100万个10n m级DDR4D RAM模块，这些模块是使用EUV过程制作的，也得到了客户的评估。
 

这家韩国科技巨头表示，随着这些评估的完成，它为明年大规模生产新的DRAM模块铺平了道路。

三星在其平泰克工厂的EUV专用V2生产线将于下半年开始生产DRAM模块。 该线预计将产生第四代10nm级DDR5和LPDDR5。
 

这是除了7nm级逻辑芯片，也使用EUV工艺，已经在平泰克工厂生产。 通过使用EUV，该公司补充说，这将使其单个12英寸晶片的制造生产率翻一番。

欧维工艺使用短波长的紫外光在晶片上绘制设计图案。 与以前使用氟化氩激光的光刻技术相比，这允许更详细和更精细的设计。
 

全球半导体制造商，如三星、英特尔和台积电，都有望扩大EUV在芯片生产中的应用，三星此前表示，它计划使用EUV工艺将逻辑芯片缩小到3nm。

在上周的股东大会上，该公司的联席首席执行官兼副董事长金基南(KimKi-nam)表示，他预计，在去年内存市场低迷之后，随着数据中心的需求，这一市场将稳定下来。

（编辑：核心网）

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