“印钞机”中芯国际

中芯国际在大陆芯片制造产业中的重要性不能仅用其营收等指标来衡量，其作为产业拓荒者更重要的是对国家发展的战略意义。尽管外部有封锁和竞争，但是中芯国际为大陆芯片制造产业积累了很多宝贵经验，补全了国产芯片产业链的重要一环。

中芯国际缩小了中国晶圆制造与世界的差距，其发展与进步极大促进了中国晶圆制造工艺技术的提高，支持了国内集成电路设计公司的发展，带动了相关上下游产业的协同发展。

以上游设备业为例，中芯国际倡导使用国内厂商的设备，除了大家经常听到的光刻机之外，还有离子蚀刻机、离子注入机、光学抛光机、快速退火设备等等。

随着企业工艺的不断演进，设备厂的技术能力得到了显著提高，过去七年国产半导体装备的市场占有率从1%提高到了15%。

此外，中芯国际还在积极推进产学研合作。其与国内集成电路领域的主要高校和研究机构开展产学研合作，共同发展前沿技术，推动科技成果的产业化，建设自主创新体系，提供在职训练岗位，培养面向工业的高端学术人才，促进学界和产业界的学术交流。

虽然中芯国际目前取得了不错的成绩，但与其直接竞争的都是国际知名企业。中兴国际与它们相比面临体量过小，技术受限等问题，中芯国际如何克服掣肘，实现突破？

打破光刻机禁锢，实现N+1

此前，荷兰ASML的EUV光刻机禁运中芯国际事件，又将光刻机这一重要设备推向风口浪尖。

中芯国际与国际最先进的芯片制造水平只有一两代工艺的差距。但荷兰ASML禁止向中芯国际提供EUV光刻机，使得中芯国际无法获得EUV 技术，从而无法向更高制程前进。

制程，指的是芯片内电路与电路之间的距离。在生产CPU的过程中，集成电路的精细度、精度越高，生产工艺就越先进。制程是微电子技术发展与进步的重要指标，芯片制程越高，意味着芯片可以拥有更复杂的电路设计，不仅芯片性能得以提升，而且功耗也能大幅降低。

目前，除了台积电、英特尔、三星等世界顶尖厂商在积极追逐10nm、7nm、5nm甚至更先进的制程。由于技术和资金的问题，联电和格芯已经放缓了革新的脚步，这对于中国本土的晶圆厂而言，是个不错的发展机遇。中芯国际这些年在工艺的突破频频告捷，国产芯片崛起可期。

2019年，中芯国际已宣布量产14nm芯片。且细看中芯国际的工艺研发路线可以发现，中芯国际在14nm量产后，可能会跳过10nm工艺，朝7nm的目标迈进。

中芯国际此前多次表示：中芯国际的下一代工艺是N+1工艺。虽然中芯国际没有透露具体细节，只是称下一代工艺与14nm相比，性能提升了20%，功耗降低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%。

换算下来，这正是7nm的技术标准。

一直以来，英特尔是按照单位面积内晶体管的数量来判断芯片工艺的标准。英特尔10nm芯片一个单位占面积54*44nm，每平方毫米1.008亿个晶体管；台积电7nm芯片一个单位占面积57*40nm，每平方毫米1.0123亿个晶体管。而中芯国际的N+1代工艺，也达到了7nm的标准。

如果中芯国际能试产N+1工艺芯片，或能够小批量生产N+1工艺芯片，中芯国际将成为全球第三家掌握10nm以下工艺的芯片代工企业。

除此之外，中芯国际的FinFET技术研发也在不断向前推进。第一代FinFET（14nm）已成功量产，第二代FinFET（12nm工艺）正在研发稳步推进。

中芯国际CEO梁孟松曾多次表示，目前中芯国际无需EUV光刻机，也能实现7nm工艺的生产，台积电第一代7nm工艺芯片也没有使用EUV光刻机。未来，中芯国际致力于在先进制程上不断突破。

半导体行业由于技术难，垄断性高一直被誉为“印钞机”行业。此次中芯国际上市后，希望其能凭借资本的优势，促进国产半导体行业协同发展，扛起“国产替代”大旗。

不久的将来，中芯国际不仅是投资者的“印钞机”，也能成为半导体行业的“印钞机”。

（编辑：核心网）

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