盘点国产光刻产业链的“星星之火”，十三年磨一剑背后的中国芯片
发布时间：2020-12-28 14:40:53 所属栏目：业界 来源：未知
导读：今年六月份有消息传出，国产光刻机龙头上海微电子将在一年内交付用于28nm制程生产的193nm ArF光刻机。 另外，据方正证券今年发布的相关研报，国家02专项光刻机项目二期曾设定，拟于2020年12月验收由上海微电子设计集成的193nm ArF浸没式DUV光刻机。 这一技术
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另外，借力国外成熟产品或可帮助芯片制造商实现突破。2018年，我国芯片公司中芯国际花费约1.2亿美元，向阿斯麦订购了一台EUV光刻机。由于种种原因，目前，这台光刻机还未成功交付。我们期待它能够尽快落地中国，助力中国芯片事业再上一个台阶。 在严峻的外部贸易环境下，攻关光刻技术对国产芯片产业链来说意义非凡，期待相关技术攻关能够实现突破。 （编辑：核心网） 【声明】本站内容均来自网络，其相关言论仅代表作者个人观点，不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利，请及时与联系站长删除相关内容! |
