中国芯片制造迈出一大步！中科院造出最强紫外超分辨光刻机

国内的芯片制造商中芯国际、长江存储等厂商不得不高价从 ASML 买入光刻机。

今年 5 月，日经亚洲评论曾报道，中芯国际向国际半导体设备大厂 ASML 下单了一台 1.2 亿美元的 EUV 光刻机，预计将于 2019 年初交货。

另外，长江存储今年也从 ASML 买入一台浸润式光刻机，售价高达 7200 万美元。

那么，所谓的光刻机到底是啥？

光刻机原理

光刻机，芯片制造的核心设备之一。中科院光电所的胡松、贺晓栋在《中科院之声》发表的一篇文章中这样介绍它的重要性：

后工业时代包括现在的工业 3.0、工业 4.0，都以芯片为基础，光刻机作为制造芯片的工具，就相当于工业时代的机床，前工业时代的人手。

但比较特殊的是，光刻机以光为“刀具”。具体来说，工艺流程大致是这样的：

在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线透过掩模照射在硅片表面，被光线照射到的光刻胶会发生反应。

此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶， 就实现了电路图从掩模到硅片的转移。

引自：《一文看懂光刻机》，华创证券

这只是一个简化的过程，通常情况下，想要用光刻机制造出一个芯片，需要在极其细微的结构上进行上百次套刻和数千道工艺，需要几百种设备才能完成。

这次中科院研制成功的光刻机，能力达到了 22 纳米。这是什么概念呢？中科院的文章中提到了一个对比：

头发的直径约为 80 微米，22 纳米是头发直径的1/3600。也就是说，这个光刻机能够在头发表面加工各种复杂的结构。

这台光刻机，是谁研发出来的？

（编辑：核心网）

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