中国芯片制造迈出一大步！中科院造出最强紫外超分辨光刻机
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中科院光电所的 7 年探索
这台光刻机背后的研究机构是中科院光电所。 带头完成这项研发任务的，是中科院光电所所长、超分辨光刻装备项目首席科学家、中国科学院大学教授&博导罗先刚研究员。
罗先刚在光电领域的学术地位从他的一长串 title 中可见一斑： 微细加工光学技术国家重点实验室主任，国家 973 计划首席科学家，曾获 2016 年度国家技术发明一等奖，，2017 年中国工程院院士增选有效候选人，国家杰出青年科学基金获得者，中组部首批万人计划科技领军人才、2009 年“新世纪百千万人才工程”国家级人选，2004 年中科院“百人计划”入选者，中国光学学会、美国光学学会、国际光学工程学会、国际光电子与激光工程学会四大学会成员（Fellow）。 从 1995 年在中科院光电技术研究所读硕士开始，罗先刚已经从事光电领域 20 余年了，在中科院光电技术研究所读完硕士和博士后，他去了日本理化学研究所做博士后和研究科学家。 2004 年，罗先刚回到了他读书的中科院光电技术研究所，开始担任研究员。20 余年的光电学术之路上，他不仅发表了 SCI 收录论文 100 余篇，还带出了数十名优秀的硕士博士生。
项目副总师胡松也是中科院光电技术研究所的研究员、中国科学院大学博导，在光学投影曝光微纳加工技术、 微细加工光刻技术有丰富的经验，享受国务院政府津贴，曾主持多个国家级、部委级、省级科研项目，发表十余项专利技术。 中科院光电所完成这项计划用了 7 年。 根据经济日报报道，2012 年，中科院光电所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务，当时并没有任何国外成熟经验可借鉴。 7 年来，项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，其采用 365 纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到 22 纳米(约1/17 曝光波长)。 在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，实现了 10 纳米以下特征尺寸图形的加工。 另外，这个项目还发表了论文 68 篇，申请国家发明专利 92 项，其中授权 47 项，申请国际专利 8 项，授权 4 项，为国家培养了一支超分辨光刻技术和装备研发团队。 【编辑推荐】
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